[发明专利]薄膜封装结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910149855.3 申请日: 2019-02-28
公开(公告)号: CN109904344A 公开(公告)日: 2019-06-18
发明(设计)人: 韩伟 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 毛方方
地址: 065500 河*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种薄膜封装结构及其制备方法,其中所述薄膜封装结构包括基板、位于所述基板上的功能器件以及位于所述基板上并对所述功能器件进行封装的薄膜封装层,所述功能器件位于所述基板和所述薄膜封装层所形成的密闭空间内,所述薄膜封装层包括依次层叠设置的第一无机封装层、有机层和第二无机封装层,其中所述第一无机封装层比第二无机封装层更靠近所述功能器件设置,且所述第一无机封装层至少包括无机子层和金属氧化物层交替层叠形成的三层结构,所述无机子层与所述金属氧化物层材料不同。本发明薄膜封装结构具有良好的覆盖性和阻隔水氧能力。
搜索关键词: 封装层 薄膜封装结构 功能器件 基板 薄膜封装层 金属氧化物层 制备 交替层叠 密闭空间 三层结构 依次层叠 覆盖性 有机层 水氧 封装 阻隔
【主权项】:
1.一种薄膜封装结构,其包括基板、位于所述基板上的功能器件以及位于所述基板上并对所述功能器件进行封装的薄膜封装层,所述功能器件位于所述基板和所述薄膜封装层所形成的密闭空间内,其特征在于:所述薄膜封装层包括依次层叠设置的第一无机封装层、有机层和第二无机封装层,其中所述第一无机封装层比第二无机封装层更靠近所述功能器件设置,且所述第一无机封装层至少包括无机子层和金属氧化物层交替层叠形成的三层结构,所述无机子层与所述金属氧化物层材料不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云谷(固安)科技有限公司,未经云谷(固安)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910149855.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top