[发明专利]图案化量子点薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201910159264.4 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN111650810B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 邓承雨;芦子哲 | 申请（专利权）人： | TCL科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 黄志云 |
| 地址： | 516006 广东省惠州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种图案化量子点薄膜的制备方法，包括：提供聚硅氧烷衍生物与固化剂的混合胶体溶液，将所述胶体溶液沉积在原始模板上，经固化反应制备压印模板，其中，所述压印模板在一表面形成凸起印章，且所述凸起印章以外的部分形成的图案与待制备的量子点薄膜的图案对应；提供含氟化合物的酸性溶液，至少在所述压印模板形成所述凸起印章的一面沉积所述酸性溶液，制备疏水表面；在所述压印模板的凸起印章表面沉积金属离子淬灭剂，在所述凸起印章表面形成淬灭剂层；提供基板，在所述基板上沉积量子点溶液，将所述压印模板放置在所述量子点溶液上，经压印处理后，将所述压印模板与形成的量子点薄膜分离，得到图案化量子点薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 量子 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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