[发明专利]柔性光刻胶软模板及其制备方法在审
| 申请号： | 201910160336.7 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN109799676A | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 狄增峰;韩晓雯;高敏;王雅澜;吴宇峰;胡涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68;G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 罗泳文 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种柔性光刻胶软模板及其制备方法，制备方法包括：1)提供牺牲衬底，在牺牲衬底上形成光刻胶材料层；2)对光刻胶材料层进行图形化曝光处理及显影处理，以在牺牲衬底上形成光刻胶图形层；3)采用腐蚀液去除牺牲衬底，以获得柔性光刻胶软模板；4)提供目标衬底，将柔性光刻胶软模板转移到目标衬底上。本发明可以制备出纳米尺度的柔性光刻胶软模板，可大大提高模板精度，本发明的柔性光刻胶软模板精度与光刻精度相同。本发明将制备好的柔性光刻胶软模板转移至目标衬底，不会造成目标衬底上光刻胶残留，保证了目标衬底的洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 光刻胶 软模板 制备 光刻胶材料层 光刻胶图形层 图形化曝光 刻胶材料 纳米尺度 显影处理 腐蚀液 胶残留 洁净度 上光 光刻 去除 保证 | ||
【主权项】：
1.一种柔性光刻胶软模板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：1)提供牺牲衬底，在所述牺牲衬底上形成光刻胶材料层；2)对所述光刻胶材料层进行图形化曝光处理及显影处理，以在所述牺牲衬底上形成光刻胶图形层；3)采用腐蚀液去除所述牺牲衬底，以获得柔性光刻胶软模板。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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