[发明专利]一种掩模台及光刻系统有效
| 申请号： | 201910161037.5 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN111650815B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 蔡晨;王鑫鑫;齐芊枫 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种掩模台和光刻系统，其中掩模台包括：支撑底座；承版台，滑动连接在支撑底座的上端面上；两组Y向运动机构，设置在支撑底座上，且两组Y向运动机构分别设置在承版台沿X方向的两侧；X向运动机构，设置在Y向运动机构上且与承版台连接，Y向运动机构带动X向运动机构沿Y方向运动，Y方向与X方向垂直。光刻系统包括上述掩模台。本发明公开的掩模台和光刻系统，能够减小掩模台和光刻系统的体积，降低掩模台和光刻系统的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩模台 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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