[发明专利]一种用于旋转阴极的液密封结构及真空磁控溅射装置

摘要

本申请公开一种用于旋转阴极的液密封结构，在真空磁控溅射旋转阴极中采用上述液密封结构用于冷却水的动态和静态密封，所述第一密封环的一端设置有与固定件连接的键结构，另一端与第二密封环平面接触；两密封环高光洁度表面之间直接接触提供动态密封，动态密封表面提供一个合适的轴向力，保证良好的动态密封并保护动态密封表面。因此，采用上述液密封结构既可以保证高压大流量的冷却水供应，减少靶面积瘤、打弧现象；又可以确保有更高的溅射速率。并且，在真空磁控溅射旋转阴极中采用上述液密封结构可以有效的满足旋转阴极在其使用过程中对冷却循环密封结构的质量高密封性能和长期免维护的迫切需求。

主权项

1.一种用于旋转阴极的液密封结构，其特征在于，包括固定件，第一密封环、第二密封环、压环、靶材端法兰以及弹性件；其中，所述靶材端法兰包括法兰盘以及由法兰盘一端向外的筒结构；所述第一密封环、第二密封环、压环、靶材端法兰的筒结构同轴设置；所述第一密封环的一端设置有与固定件连接的键结构，另一端与第二密封环平面接触；所述第二密封环另一端与压环相抵接；弹性件设置于所述法兰盘与所述压环之间，两端分别抵接所述法兰盘与所述压环，并在装配后呈压缩状态；所述靶材端法兰的筒结构套接于所述压环和第二密封环外侧，并与二者密封接触；所述靶材端法兰、压环以及第二密封环共同套接于固定件的圆柱体上，与所述圆柱体之间的空腔构成冷却液体的容纳空间。