[发明专利]检测缺陷点聚集性的方法及装置有效
| 申请号： | 201910169245.X | 申请日： | 2019-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN109886956B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 杨姗姗;胡龙敢;冯玉春 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/11 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种检测缺陷点聚集性的方法及装置，涉及自动光学检测技术领域，提高了检测缺陷点图中的缺陷点是否具有聚集性的检测效率和准确性，本发明的主要技术方案为：获取待检测缺陷点图、分区方式、分区数量及方差阈值；根据所述分区方式及所述分区数量对所述待检测缺陷点图进行区域分割处理，以获得多个分区；确定每个所述分区对应的缺陷点数量，并根据每个所述分区对应的缺陷点数量计算每个所述分区对应的归一化占比值；计算多个所述归一化占比值对应的方差值；判断所述方差值是否大于所述方差阈值；若是，则确定所述待检测缺陷点图中的缺陷点具有聚集性。本发明应用于检测缺陷点图中的缺陷点是否具有聚集性的过程中。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 缺陷 聚集 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种检测缺陷点聚集性的方法，其特征在于，所述方法包括：获取待检测缺陷点图、分区方式、分区数量及方差阈值；根据所述分区方式及所述分区数量对所述待检测缺陷点图进行区域分割处理，以获得多个分区；确定每个所述分区对应的缺陷点数量，并根据每个所述分区对应的缺陷点数量计算每个所述分区对应的归一化占比值；计算多个所述归一化占比值对应的方差值；判断所述方差值是否大于所述方差阈值；若是，则确定所述待检测缺陷点图中的缺陷点具有聚集性。
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