[发明专利]浆料回收系统及其清洁方法在审
| 申请号： | 201910182531.X | 申请日： | 2019-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN109940516A | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 祝涛;沈文雷 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B55/12 | 分类号： | B24B55/12 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 刘翔 |
| 地址： | 201306 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种浆料回收系统，用于半导体抛光工艺，包括：主体管路，所述主体管路依次连接浆料回收箱、回收单元以及浆料配料单元；第一支路，连接一液源与所述浆料回收箱，用于向所述浆料回收箱提供清洁液体；以及第一出口端，设置于所述主体管路上，并位于所述浆料配料单元与所述回收单元之间。本发明通过在所述第一支路通入清洁液体，使清洁液体经过所述浆料回收箱、回收单元以及主体管路，从而及时清洗掉所述主体管路以及所述浆料回收箱中的结晶浆料，清洁并疏通所述主体管路以及所述浆料回收箱，以减少晶圆表面的颗粒污染物以及降低晶圆表面被结晶浆料划伤的可能性；并且清洁液体从第一出口端排出，从而可以解决稀释和污染浆料的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 浆料回收 主体管路 清洁液体 回收单元 浆料 支路 结晶浆料 晶圆表面 配料单元 出口端 半导体抛光 颗粒污染物 依次连接 清洁 主体管 划伤 排出 稀释 箱中 液源 清洗 疏通 污染 | ||
【主权项】：
1.一种浆料回收系统，用于半导体抛光工艺，其特征在于，包括：主体管路，所述主体管路依次连接浆料回收箱、回收单元以及浆料配料单元；第一支路，连接一液源与所述浆料回收箱，用于向所述浆料回收箱提供清洁液体；以及第一出口端，设置于所述主体管路上，并位于所述浆料配料单元与所述回收单元之间。
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