[发明专利]一种湿法刻蚀设备及光刻胶清洗显影装置

摘要

本发明公开了一种湿法刻蚀设备及光刻胶清洗显影装置，该湿法刻蚀设备包括：壳体，壳体的外壁上设有控制面板；载液盆设于壳体内，用于盛放溶液；该载液盆的盆沿与壳体的内壁固连；超声波雾化器固设于载液盆的底部，用于将载液盆中的溶液雾化成液滴；刻蚀花篮设于载液盆的盆沿上，用于盛放被刻蚀器件；该被刻蚀器件与溶液分离；供电模块设于壳体的底部；其中，超声波雾化器与控制面板电连接；超声波雾化器、控制面板均与供电模块电连接。采用刻蚀花篮使被刻蚀器件与溶液分离，并用超声波雾化器将刻蚀液雾化，利用雾化液滴刻蚀器件，使镂空、栅格等精细复杂结构平稳释放，提供刻蚀精细复杂结构的成功率。

主权项

1.一种湿法刻蚀设备，其特征在于，包括：壳体，所述壳体的外壁上设有控制面板；载液盆，设于所述壳体内，用于盛放溶液；所述载液盆的盆沿与所述壳体的内壁固连；超声波雾化器，固设于所述载液盆的底部，用于将所述载液盆中的溶液雾化成液滴；刻蚀花篮，设于所述载液盆的盆沿上，用于盛放被刻蚀器件；所述被刻蚀器件与所述溶液分离；供电模块，设于所述壳体的底部；其中，所述超声波雾化器与所述控制面板电连接；所述超声波雾化器、所述控制面板均与所述供电模块电连接。