[发明专利]靶材结构在审
| 申请号： | 201910189394.2 | 申请日： | 2019-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN110684952A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 杨清河;吴智稳;翁基祥;苏梦鹏 | 申请（专利权）人： | 住华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 中国台湾台南*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种靶材结构，包括载板、磁性元件及靶材。载板具有承载面。磁性元件配置在承载面。靶材配置在磁性元件且覆盖整个磁性元件。磁性元件的位置对应一强蚀位置。本发明的磁性元件能减弱磁场强度，因此能有效减少靶材在强蚀位置位置的消耗率(减少侵蚀深度)，进而让靶材在各位置的消耗率更为平均，以提升靶材的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性元件 靶材 承载面 消耗率 载板 靶材结构 使用寿命 位置位置 有效减少 磁场 配置 侵蚀 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种靶材结构，其特征在于，该靶材结构包括：/n一载板，具有一承载面；/n一第一磁性元件，配置在该承载面；/n一靶材，配置在该第一磁性元件且覆盖整个该第一磁性元件；/n其中，该第一磁性元件的位置对应一第一强蚀位置。/n
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