[发明专利]不包含氟的蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 201910192762.9 | 申请日： | 2019-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN110273156B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 李相赫;黄俊荣;李大雨;申贤哲;金奎佈 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;H10K59/10;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;金世煜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示用于液晶显示装置或有机发光二极管显示装置等的不包含氟的钼铜合金膜蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物包含蚀刻液组合物，所述蚀刻液组合物包含：过氧化氢5重量百分比至20重量百分比、四氮环状化合物0.01重量百分比至1.5重量百分比、三氮环状化合物0.01至1.5重量百分比、芳香族化合物0.01重量百分比至1重量百分比、胺类化合物3重量百分比至10重量百分比、以及水，还包含钼铜蚀刻液组合物，所述钼铜蚀刻液组合物还包含：过氧化氢稳定剂1重量百分比至5重量百分比、有机酸1重量百分比至5重量百分、无机酸0.1重量百分比至5重量百分比以及磺酸化合物1重量百分比至5重量百分比。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，其特征在于，包含：过氧化氢5重量百分比至20重量百分比；四氮环状化合物0.01重量百分比至1.5重量百分比；三氮环状化合物0.01重量百分比至1.5重量百分比；芳香族化合物0.01重量百分比至1重量百分比；胺类化合物3重量百分比至10重量百分比；以及水。
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