[发明专利]测定器、蚀刻系统、硅浓度测定方法及硅浓度测定程序有效
| 申请号： | 201910193622.3 | 申请日： | 2019-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN110857913B | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 村上友佳子;植松育生;平川雅章 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G01N21/3577 | 分类号： | G01N21/3577 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供能够测定溶液中的微量硅浓度的测定器、蚀刻系统、硅浓度测定方法及硅浓度测定程序。根据实施方式，提供一种测定器，其包含输入输出部、存储器和处理器。输入输出部被输入测定值信息，所述测定值信息表示测定对象液的磷酸、第2酸和水的浓度，所述测定对象液包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pK |
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| 搜索关键词： | 测定 蚀刻 系统 浓度 方法 程序 | ||
【主权项】：
暂无信息
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