[发明专利]一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件在审
| 申请号： | 201910198789.9 | 申请日： | 2019-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN109869409A | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 郑锦;逯文冬;耿晨宇;黄省三 | 申请（专利权）人： | 南京原磊纳米材料有限公司 |
| 主分类号： | F16C11/06 | 分类号： | F16C11/06;F16C11/12;F16F7/104;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人： | 李静 |
| 地址： | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及原子层沉积领域，具体是一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，包括伺服电缸，伺服电缸下端设置有限位块，所述限位块下端安装有定位销轴，限位块和定位销轴通过自调轴连接，自调轴上套设有弹簧。本发明中自调轴和弹簧增加了柔性连接自调的效果，进而避免硬性摩擦产生的机械颗粒，在每次开关时可提升定位的准确度，从而达到了每次工艺的稳定性和重复性。解决了目前在原子层沉积半导体设备上的提升机构上大多数是刚性连接件，进而易产生机械金属颗粒问题。 | ||
| 搜索关键词： | 提升机构 原子层沉积设备 原子层沉积 定位销轴 伺服电缸 连接件 限位块 弹簧 下端 半导体设备 刚性连接件 准确度 金属颗粒 柔性连接 硬性摩擦 轴连接 上套 位块 | ||
【主权项】：
1.一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，包括伺服电缸（1），伺服电缸（1）下端设置有限位块（3），其特征在于，所述限位块（3）下端安装有定位销轴（6），限位块（3）和定位销轴（6）通过自调轴（5）连接，自调轴（5）上套设有弹簧（4）。
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