[发明专利]一种掩膜版、制备方法及显示面板在审
申请号: | 201910199578.7 | 申请日: | 2019-03-15 |
公开(公告)号: | CN109814332A | 公开(公告)日: | 2019-05-28 |
发明(设计)人: | 孙增标;单奇;闫德松 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F7/20 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 张海英 |
地址: | 065500 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜版、制备方法及显示面板。该掩膜版包括:曝光图形;至少一条封闭遮光线,封闭遮光线设置于曝光图形中且依次间隔排列;相邻封闭遮光线之间的缝隙宽度为D1,最邻近曝光图形的封闭遮光线与曝光图形的边缘之间的缝隙宽度为D2,封闭遮光线的线宽为D3,曝光光束的波长为D4;D1、D2、D3以及D4满足|D1‑D4|≤A;|D2‑D4|≤A;|D3‑D4|≤A,以使曝光光束照射至封闭遮光线时发生衍射,其中,A≥0。本发明实施例可以避免刻蚀图形的侧壁坡度较大导致的接触孔导电性能差的问题,可以在通过光刻形成的刻蚀图形的边缘侧壁坡度角变小,改善接触孔的导电性能。 | ||
搜索关键词: | 遮光线 曝光图形 封闭 掩膜版 导电性能 刻蚀图形 曝光光束 显示面板 接触孔 制备 边缘侧壁 间隔排列 坡度角 波长 变小 侧壁 光刻 线宽 衍射 坡度 照射 邻近 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜版,其特征在于,包括:曝光图形;至少一条封闭遮光线,所述至少一条封闭遮光线位于所述曝光图形内;所述至少一条封闭遮光线依次间隔排列;相邻所述封闭遮光线之间的缝隙宽度为D1,最邻近所述曝光图形的所述封闭遮光线与所述曝光图形的边缘之间的缝隙宽度为D2,所述封闭遮光线的线宽为D3,曝光光束的波长为D4;D1、D2、D3以及D4满足如下关系,以使所述曝光光束照射至所述封闭遮光线时发生衍射;|D1‑D4|≤A;|D2‑D4|≤A;|D3‑D4|≤A;其中,A≥0。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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