[发明专利]不包含磷酸盐的氧化铟锡/银多层膜蚀刻液组合物在审
| 申请号： | 201910221474.1 | 申请日： | 2019-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN110295368A | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 申贤哲;李相赫;金奎佈 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;金世煜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制造显示器时使用于金属配线制造工序的不包含磷酸盐的氧化铟锡/银多层膜蚀刻液组合物及利用此的金属配线形成方法。提供一种蚀刻液组合物，包含：所述有机酸化合物的阴离子、磺酸化合物的阴离子、硝酸根离子、硫酸根离子、包含氮的二羰基(Dicarbonyl)化合物、以及余量的水，并且所述有机酸化合物的阴离子的含量为35重量百分比至50重量百分比。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻液组合物 阴离子 有机酸化合物 重量百分比 氧化铟锡 磷酸盐 多层膜 磺酸化合物 金属配线形 硫酸根离子 硝酸根离子 制造显示器 金属配线 制造工序 二羰基 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，其特征在于，包含：有机酸化合物的阴离子；磺酸化合物的阴离子；硝酸根离子；硫酸根离子；包含氮的二羰基化合物；以及余量的水，所述有机酸化合物的阴离子的含量为35重量百分比至50重量百分比。
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