[发明专利]一种纳米压印模具及其制作方法和纳米压印方法在审
| 申请号： | 201910225594.9 | 申请日： | 2019-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN109739067A | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | 谢昌翰;谭伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种纳米压印模具及其制作方法和纳米压印方法，用于使得纳米压印模具脱模后无残胶留存，提升后续工艺的乾刻均匀性。其中的纳米压印模具，包括：支撑基底；压印层，所述压印层上背离所述支撑基板的一面具有与预设图形相对应的凸起结构，所述凸起结构对应的区域为吸光区域，相邻的凸起结构之间形成透光区域。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米压印模具 凸起结构 纳米压印 压印层 后续工艺 透光区域 吸光区域 预设图形 支撑基板 均匀性 无残胶 支撑基 脱模 制作 背离 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印模具，其特征在于，包括：支撑基底；压印层，所述压印层上背离所述支撑基板的一面具有与预设图形相对应的凸起结构，所述凸起结构对应的区域为吸光区域，相邻的凸起结构之间形成透光区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910225594.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：微型投影仪
- 下一篇：炭黑分散体、感光树脂组合物、彩色滤光片、显示装置
