[发明专利]集成电路标准单元库建立方法有效
| 申请号： | 201910231277.8 | 申请日： | 2019-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN109977540B | 公开（公告）日： | 2023-08-15 |
| 发明（设计）人： | 高唯欢;胡晓明 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/39 | 分类号： | G06F30/39;G06F115/06 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 焦天雷 |
| 地址： | 201315 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种集成电路标准单元库建立方法,包括：将最小高度的标准单元版图规则化；确定第一类型晶体管延伸基准线,及延伸基准线版图规则；确定第二类型晶体管延伸基准线,及延伸基准线版图规则；将第一类型晶体管延伸基准线以上的所有层次向第一方向延伸至指定高度；将第二类型晶体管延伸基准线以上的所有层次向第二方向延伸至指定高度；确定修改后标准单元的原点；对标准单元库中所有单元进行上述修改。本发明仅需开发一套最小高度的标准单元库即能实现集成电路标准单元库高度自定义，较大程度的减少不同高度标准单元库的开发时间。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 标准 单元 建立 方法 | ||
【主权项】：
1.一种集成电路标准单元库建立方法,其特征在于，包括以下步骤：1)将最小高度的标准单元版图规则化；2)确定第一类型晶体管延伸基准线,及延伸基准线版图规则；3)确定第二类型晶体管延伸基准线,及延伸基准线版图规则；4)将第一类型晶体管延伸基准线以上的所有层次向第一方向延伸至指定高度；5)将第二类型晶体管延伸基准线以上的所有层次向第二方向延伸至指定高度；6)确定修改后标准单元的原点；7)对标准单元库中所有单元进行上述修改。
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