[发明专利]基板处理系统及求出气体流量的方法

摘要

一实施方式的基板处理系统具备基板处理装置及测定装置。基板处理装置具有气体供给部。气体供给部具有流量控制器及次级阀。次级阀连接于流量控制器的次级侧。若从基板处理系统的第1控制部经由配线输出电压，则次级阀打开。测定装置根据来自第1控制部的指示测定从流量控制器输出的气体的流量。测定装置具有第2控制部。测定装置具有设置于上述配线上的继电器。第2控制部构成为控制继电器。

主权项

1.一种基板处理系统，其具备：基板处理装置；测定装置，构成为测定在所述基板处理装置中使用的气体的流量；第1控制部，构成为控制所述基板处理装置及测定装置；及配线，连接于所述第1控制部，所述基板处理装置具备：腔室；气体供给部，构成为向所述腔室的内部空间供给气体；及排气装置，经由排气流路连接于所述腔室的所述内部空间，该气体供给部具有：流量控制器；初级阀，连接于所述流量控制器的初级侧；次级阀，连接于所述流量控制器的次级侧；及第1气体流路，包括第1端部、第2端部及第3端部，该第1端部连接于所述次级阀，该第3端部经由开闭阀连接于所述腔室的所述内部空间，所述第1控制部构成为控制所述初级阀及所述次级阀各自的开闭，对所述流量控制器指定气体的流量，指示所述测定装置测定该气体的流量，所述测定装置具备：第2气体流路，包括第4端部及第5端部，该第4端部连接于所述气体供给部的所述第2端部；第3气体流路，具有第6端部及第7端部；第1阀，连接于所述第2气体流路的所述第5端部与所述第3气体流路的所述第6端部之间；第2阀，连接于所述第3气体流路的所述第7端部且设置为能够连接于所述排气装置；一个以上的压力传感器，构成为测定所述第3气体流路内的压力；温度传感器，构成为测定所述第3气体流路内的温度；及第2控制部，构成为，控制所述第1阀及所述第2阀各自的开闭，根据来自所述第1控制部的指示执行所述流量的测定，所述第1控制部构成为经由所述配线输出电压以打开所述次级阀，所述测定装置包括设置于所述配线上的继电器，所述第2控制部构成为控制该继电器。