[发明专利]图案宽度校正系统及使用其制造半导体装置的方法在审
| 申请号： | 201910243009.8 | 申请日： | 2019-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN110687754A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 安成敏;朴相玄;尹秉敏;张宰荣 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵南;张帆 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种图案宽度校正系统以及一种制造半导体设备的方法。所述图案宽度校正系统包括：图案宽度测量单元，配置为测量在第一距离处形成的第一图案的宽度，其中所述第一图案是通过照射使用第一图案数据调制的第一光而形成的；第一误差数据计算器，配置为基于所述第一图案的测量宽度生成第一误差数据；回归分析器，配置为对所述第一误差数据进行回归分析，以在所述第一图案的X‑Y坐标和所述第一图案的宽度误差之间生成第一关系表达式；第二误差数据计算器，配置为通过使用所述第一关系表达式在具有第二距离的操作区域中生成第二误差数据；以及图案数据校正单元，配置为通过基于所述第二误差数据校正所述第一图案数据来生成第二图案数据。 | ||
| 搜索关键词： | 误差数据 图案 图案数据 配置 关系表达式 宽度校正 计算器 测量 宽度测量单元 半导体设备 操作区域 回归分析 宽度误差 校正单元 分析器 调制 校正 照射 回归 制造 | ||
【主权项】：
1.一种图案宽度校正系统，包括：/n图案宽度测量单元，配置为测量在第一距离处形成的第一图案的宽度，其中所述第一图案是通过照射使用第一图案数据调制的第一光而形成的；/n第一误差数据计算器，配置为基于所述第一图案的测量宽度生成第一误差数据；/n回归分析器，配置为对所述第一误差数据进行回归分析，以生成所述第一图案的X-Y坐标和所述第一图案的宽度误差之间的第一关系表达式；/n第二误差数据计算器，配置为通过使用所述第一关系表达式在具有第二距离的操作区域中生成第二误差数据；以及/n图案数据校正单元，配置为通过基于所述第二误差数据校正所述第一图案数据来生成第二图案数据。/n
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