[发明专利]薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示面板及装置有效
申请号: | 201910244490.2 | 申请日: | 2019-03-28 |
公开(公告)号: | CN109841581B | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 贵炳强;刘珂;高涛;黄鹏;李文强 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/367 | 分类号: | H01L23/367;H01L29/786;H01L21/336 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示技术领域,公开一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示面板及装置。其中,薄膜晶体管,包括基板、依次设置于所述基板上的绝缘层和有源层;所述薄膜晶体管还包括位于所述有源层与所述基板之间的导热结构,所述导热结构的导热性能优于所述绝缘层。上述薄膜晶体管(TFT)中,在有源层与所述基板之间设置有导热性能较优的导热结构,可以使有源层自加热产生的热量被快传地传递至基板进而导出,从而有效避免热量积累,进而可以缓解自加热效应对TFT电特性造成的影响,改善TFT电特性,提高TFT的稳定性和良率。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 及其 制备 方法 阵列 显示 面板 装置 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征在于,包括基板、依次设置于所述基板上的绝缘层和有源层;所述薄膜晶体管还包括位于所述有源层与所述基板之间的导热结构,所述导热结构的导热性能优于所述绝缘层。
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