[发明专利]一种掩膜板在审
| 申请号： | 201910260124.6 | 申请日： | 2019-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN110048030A | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 何超 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/52 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板，包括阻挡区及通透区，其中所述阻挡区与所述通透区之间还设有镂空区，所述镂空区内设置有第一通孔。本发明提供了一种掩膜板，通过在所述阻挡区及通透区之间增加镂空区域设计，在正常沉积相应膜层时可以适当增加掩膜板与基板之间的间距，避免成膜时膜面刮伤或膜层连续的情况；并且使用半镂空设计，可以在掩膜板与基板之间的间距较大的情况下减少沉积膜层时的阴影效应，进而能够实现窄边框设计，同时提升封装效果。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 通透区 阻挡区 镂空 基板 膜层 窄边框设计 沉积膜层 阴影效应 镂空区域 镂空区 沉积 成膜 刮伤 膜面 通孔 掩膜 封装 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，包括阻挡区及通透区，其中所述阻挡区与所述通透区之间还设有镂空区，所述镂空区内设置有第一通孔。
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