[发明专利]清理方法有效
| 申请号： | 201910261598.2 | 申请日： | 2019-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN110349826B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 三之森章祥;山口伸 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一实施方式所涉及的清理方法为等离子体处理装置的载置台的清理方法，具备去除形成在载置台上的反应产物的工序。去除反应产物的工序具备将伪晶片载置于载置台的工序、使载置台的温度上升的工序以及在使载置台的温度上升后进行反应产物的去除的工序。使载置台的温度上升的工序中，打开将从载置台的热交换部排出且经压缩后的制冷剂冷凝并供给到热交换部的冷凝器的输出端与热交换部的输入端之间的膨胀阀的同时向载置台输入热量，并且打开将从热交换部排出的制冷剂压缩并供给到冷凝器的压缩器的输出端与热交换部的输入端之间的分流阀的同时调节分流阀的开度，由此使载置台的温度上升。 | ||
| 搜索关键词： | 清理 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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