[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质在审

专利信息
申请号: 201910262248.8 申请日: 2019-04-02
公开(公告)号: CN110349882A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 绫部刚;诧间康司;真锅陵;尹钟源 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质,能够缩短装置的停机时间。基板处理装置(10)具备:处理单元(16),其对晶圆(W)进行处理;罐(102、202),其贮存处理液;处理液供给部(103、203),其将罐内的处理液供给至处理单元;排出部(110、210),其将罐内的处理液排出;补充部(112、212),其将处理液补充至罐;以及控制部(18),其中,控制部构成为执行以下控制:控制处理液供给部并且控制处理单元来实施处理工作;以及当在处理工作的实施期间规定的液更换实施条件成立时,控制排出部并且控制补充部,以使液更换处理与处理工作并行地实施。
搜索关键词: 基板处理装置 处理液 处理单元 存储介质 基板处理 排出部 补充 处理液供给部 控制处理单元 处理液供给 控制处理 实施条件 缩短装置 供给部 晶圆 排出 停机 贮存 并行
【主权项】:
1.一种基板处理装置,具备:基板处理部,其利用处理液对基板进行处理;贮存部,其贮存所述处理液;处理液供给部,其将所述贮存部内的所述处理液供给至所述基板处理部;排出部,其将所述贮存部内的所述处理液排出;补充部,其将所述处理液补充至所述贮存部;以及控制部,其中,所述控制部构成为执行以下控制:控制所述处理液供给部以向所述基板处理部供给所述处理液,并且控制所述基板处理部以利用所述处理液对所述基板进行处理,由此实施处理工作;以及当在所述处理工作的实施期间规定的液更换实施条件成立时,控制所述排出部以将所述贮存部内的处理液排出,并且控制所述补充部以向所述贮存部内补充新的所述处理液,使液更换处理与所述处理工作并行地实施。
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