[发明专利]大容量真空控制装置

摘要

本发明公开了一种大容量真空控制装置，其本体内具有一控气室，能用以供一真空发生二口二位阀与一真空破坏二口二位阀设置其中，且控气室连通至本体外部设置的一真空发生电磁阀与一真空破坏电磁阀，一气压源连通该控制室至该本体内的一进气室，一吸入口与一真空压力开关则连通至本体内的一流道配合一逆止阀至一吸气室，该进气室的侧壁设置二真空产生器贯穿一吸气室与一排气室，该排气室还设有一消音器形成一排出口，借该真空产生器并联让该吸入口的流量增加，利用该真空发生电磁阀与该真空破坏电磁阀各别控制真空发生与破坏，借以获得真空节能的效果，让吸入口能于吸附工件时，不需持续大量输入压缩空气，就能保持一定时间进行相对应的动作。