[发明专利]一种全自动研磨清洗机及其研磨清洗工艺

摘要

本发明公开了一种全自动研磨清洗机及其研磨清洗工艺，包括沿玻璃片流动方向依次设置于机台上的上料部分、CF清洁部分、TFT清洁部分、二流体清洗干燥部分及下料部分，待清洗的玻璃片依次经上料部分搬运至CF清洁部分，经CF清洁部分清洗CF面，经TFT清洁部分清洗TFR面，经二流体清洗干燥部分同时清洗CF及TFT面后进行干燥，干燥后的玻璃片经下料部分下料导出。本发明有效实现小微尺寸玻璃片传输，有效避免了二流体冲洗及干燥过程中玻璃片位置偏移及运动干涉问题，利用相邻传送辊之间间隙向上延伸形成的双玻璃传输通道配合下料机械手实现玻璃片旋转分料导出，可实时地控制毛刷高度，避免玻璃片位移，有效提升毛刷清洁效率以及毛刷清洁的实时通用性。

主权项

1.一种全自动研磨清洗机，其特征在于：包括沿玻璃片流动方向依次设置于机台(1)上的上料部分、CF清洁部分、TFT清洁部分、二流体清洗干燥部分及下料部分，待清洗的玻璃片依次经上料部分搬运至CF清洁部分，经CF清洁部分清洗CF面，经TFT清洁部分清洗TFR面，经二流体清洗干燥部分同时清洗CF及TFT面后进行干燥，干燥后的玻璃片经下料部分下料导出；上述上料部分包括上料平台(2)及上料机械手(3)，上料平台(2)设置于机台(1)的一侧，上料机械手(3)设置于上料平台(2)的上方；上述CF清洁部分包括清洁平台(4)、CF毛刷机构(5)及CF研磨机构(6)，清洁平台(4)沿直线方向间隔设置于上料平台(2)的侧部，并沿玻璃片流动方向直线滑移；上述CF毛刷机构(5)包括二套，两CF毛刷机构(5)间隔跨设于清洁平台(4)的上方；上述CF研磨机构(6)设置于两CF毛刷机构(5)之间，且研磨面朝下；玻璃片CF清洗时，上料机械手(3)将上料平台(2)上待清洗的玻璃片搬移至清洁平台(4)上，清洁平台(4)依次滑移至CF毛刷机构(5)、CF研磨机构(6)及CF毛刷机构(5)下方，清洁平台(4)上的玻璃片的CF面依次完成毛刷清洁、研磨盘清洁及毛刷清洁；上述TFT清洁部分包括TFT清洁机械手(7)、TFT研磨机构(8)及TFT毛刷机构(9)，其中，上述TFT清洁机械手(7)设置于CF毛刷机构(5)的侧部；上述TFT毛刷机构(9)包括二套，两TFT毛刷机构(9)间隔设置于TFT清洁机械手(7)的下方；上述TFT研磨机构(8)设置于两TFT毛刷机构(9)之间，且研磨面朝上；TFT清洁机械手(7)从清洁平台(4)上吸取CF面清洁完成的玻璃片后，依次经过TFT毛刷机构(9)、TFT研磨机构(8)及TFT毛刷机构(9)，完成对玻璃片TFT面的毛刷清洁、研磨盘清洁及毛刷清洁；上述二流体清洗干燥部分包括辊送料机构(10)、辅助传输机构(11)、二流体清洗机构(12)及干燥机构(13)，其中，上述辊送料机构(10)设置于TFT毛刷机构(9)的侧部，并沿玻璃片流动方向设置；上述辅助传输机构(11)跨设于辊送料机构(10)的上方；上述二流体清洗机构(12)包括二套，两二流体清洗机构(12)对应设置于辊送料机构(10)的上方及下方；上述干燥机构(13)间隔设置于二流体清洗机构(12)的侧部；TFT面清洁完成的玻璃片经TFT清洁机械手(7)放置于辊送料机构(10)上，辊送料机构(10)将玻璃片沿直线方向传动，依次经过二流体机构(12)及干燥机构(13)处，进行二流体清洗及干燥；上述下料部分包括下料机构(14)、下料机械手(15)及下料平台(16)，其中，上述下料机构(14)间隔设置于辊送料机构(10)的侧部；上述下料平台(16)间隔设置于下料机构(14)的侧部；上述下料机械手(15)跨设于下料机构(14)与下料平台(16)之间；干燥完成的玻璃片经辊送料机构(10)传输至下料机构(14)，并经下料机构(14)直线传送，下料机械手(15)将玻璃片搬运至下料平台(16)上。