[发明专利]一种金属层蚀刻速率的监控方法及其装置

摘要

本申请提供一种金属层蚀刻速率的监控方法及其装置，金属层蚀刻装置包括：玻璃基板，表面制备有待蚀刻的金属层；光信号发射器，设置于玻璃基板的一侧，用于向玻璃基板垂直地发射穿透性光信号；光信号接收器，相对光信号发射器设置于玻璃基板的另一侧，用于接收光信号发射器发射的穿过玻璃基板的光信号；光罩，设置于光信号发射器与光信号接收器之间，且三者的连线与玻璃基板的平面垂直，用于起标识作用；其中，玻璃基板通过光罩时，光信号发射器发射光信号并通过光罩射向玻璃基板，从玻璃基板进入蚀刻段时起至光信号接收器接收到光信号的时间点为金属层蚀刻完成所用的蚀刻时间，根据金属层的膜厚以及蚀刻时间用于获得金属层的蚀刻速率。

主权项

1.一种金属层蚀刻装置，其特征在于，包括：玻璃基板，表面制备有待蚀刻的金属层；光信号发射器，设置于所述玻璃基板的一侧，用于向所述玻璃基板垂直地发射穿透性光信号；光信号接收器，相对所述光信号发射器设置于所述玻璃基板的另一侧，用于接收所述光信号发射器发射的穿过所述玻璃基板的光信号；光罩，设置于所述光信号发射器与所述光信号接收器之间，且三者的连线与所述玻璃基板的平面垂直，用于起标识作用；其中，所述玻璃基板通过所述光罩时，所述光信号发射器发射所述光信号并通过所述光罩射向所述玻璃基板，从所述玻璃基板进入蚀刻段时起至所述光信号接收器接收到所述光信号的时间点为所述金属层蚀刻完成所用的蚀刻时间，根据所述金属层的膜厚以及所述蚀刻时间获取所述金属层的蚀刻速率。