[发明专利]微发光二极管的转移设备及转移方法有效
申请号: | 201910309358.5 | 申请日: | 2019-04-17 |
公开(公告)号: | CN110021687B | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 谢俊杰;谭叶舟;罗振兴;向彬;桑建 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/683 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供一种微发光二极管的转移设备及转移方法,涉及显示技术领域。本公开的转移设备用于将微发光二极管转移至基板上,该转移设备包括滚筒,该滚筒包括筒侧壁、筒端壁及由筒侧壁和筒端壁包围的空腔;筒侧壁的外周面设有沿周向阵列排布的多个吸附槽,空腔与各吸附槽的底部连通;每个吸附槽均沿深度方向朝滚筒中轴线逐渐收缩,并与微发光二极管的一端匹配,用于吸附微发光二极管;筒端壁设有与空腔连通的开孔,通过开孔使得空腔形成负压状态。本公开的转移设备可提高转移精度和效率,改善产品质量。 | ||
搜索关键词: | 发光二极管 转移 设备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种转移设备,用于将微发光二极管转移至基板上,其特征在于,所述转移设备包括:滚筒,所述滚筒包括筒侧壁、筒端壁及由所述筒侧壁和所述筒端壁包围的空腔;所述筒侧壁的外周面设有沿周向阵列排布的多个吸附槽,所述空腔与各所述吸附槽的底部连通;每个所述吸附槽均沿深度方向朝所述滚筒中轴线逐渐收缩,并与所述微发光二极管的一端匹配,用于吸附所述微发光二极管;所述筒端壁设有与所述空腔连通的开孔,通过所述开孔使得所述空腔形成负压状态。
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