[发明专利]集成电路及其形成方法有效
| 申请号： | 201910310150.5 | 申请日： | 2019-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN110880345B | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 姜慧如;林仲德;曹敏;米玉杰;赖昇志 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G11C11/16 | 分类号： | G11C11/16 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 在其它实施例中，本发明的实施例涉及集成电路及其形成方法。集成电路包括被配置为存储数据状态的工作磁隧道结(MTJ)器件。工作MTJ器件连接至位线。调节访问装置连接在工作MTJ器件和第一字线之间。调节访问装置具有被配置为控制提供给工作MTJ器件的电流的一个或多个调节MTJ器件。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
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