[发明专利]三维半导体存储器件在审
申请号: | 201910316718.4 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN110391249A | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 李奉镕;李宰求 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/1157 | 分类号: | H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11582;H01L21/768;H01L23/538 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 李娜;赵莎 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种三维半导体存储器件,可以包括:衬底,所述衬底包括单元阵列区域和连接区域;电极结构,所述电极结构包括依次堆叠在所述衬底的表面上并从所述单元阵列区域延伸到所述连接区域的多个栅电极;第一源极导电图案,所述第一源极导电图案在所述单元阵列区域上位于所述电极结构与所述衬底之间;以及单元垂直半导体图案和第一虚设垂直半导体图案,所述单元垂直半导体图案和所述第一虚设垂直半导体图案穿透所述电极结构和所述第一源极导电图案,并延伸到所述衬底中。所述单元垂直半导体图案可以接触所述第一源极导电图案。所述第一虚设垂直半导体图案可以与所述第一源极导电图案电绝缘。 | ||
搜索关键词: | 垂直半导体图案 导电图案 衬底 源极 电极结构 单元阵列区域 三维半导体存储器 虚设 连接区域 电绝缘 栅电极 延伸 堆叠 穿透 | ||
【主权项】:
1.一种三维半导体存储器件,包括:衬底,所述衬底包括单元阵列区域和连接区域;电极结构,所述电极结构包括依次堆叠在所述衬底的表面上并沿第一方向从所述单元阵列区域延伸到所述连接区域的多个栅电极,所述第一方向平行于所述衬底的顶表面;第一源极导电图案,所述第一源极导电图案在所述单元阵列区域上位于所述电极结构与所述衬底之间;以及单元垂直半导体图案和第一虚设垂直半导体图案,所述单元垂直半导体图案和所述第一虚设垂直半导体图案位于所述单元阵列区域上,穿透所述电极结构和所述第一源极导电图案,并延伸到所述衬底中,其中,所述单元垂直半导体图案接触所述第一源极导电图案,并且其中,所述第一虚设垂直半导体图案与所述第一源极导电图案电绝缘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的