[发明专利]在腔体检查缺陷的系统及其方法在审

专利信息
申请号: 201910321869.9 申请日: 2019-04-22
公开(公告)号: CN110530870A 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 李淳钟;李东锡;洪载和;申河荣;李镕式 申请(专利权)人: 塞米西斯科株式会社
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 延美花;臧建明<国际申请>=<国际公布>
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 公开缺陷检查系统及其方法。检查出检查对象物的边缘有无缺陷的缺陷检查系统包括:光源部;及利用所述光源部照射的光在配置有检查对象物的移送部件的上部拍摄所述检查对象物以检查出所述检查对象物有无缺陷的摄像头,所述摄像头可在腔体内部及腔体外部中至少一个拍摄所述检查对象物。本发明能够在腔体准确地检测出检查对象物的边缘。并且,本发明的目的是提供以非接触非破坏方式在腔体内部密闭的真空状态下也能够检查出检查对象物边缘有无缺陷。
搜索关键词: 检查对象物 缺陷检查系统 摄像头 腔体内部 光源部 腔体外部 移送部件 真空状态 检查 拍摄 非接触 非破坏 密闭 腔体 照射 检测 配置
【主权项】:
1.一种缺陷检查系统,是检查对象物缺陷检查系统,其特征在于,包括:/n光源部;及/n摄像头,其利用所述光源部照射的光在配置有检查对象物的移送部件的上部拍摄所述检查对象物以检查出所述检查对象物有无缺陷,/n其中,所述摄像头在腔体内部及腔体外部中至少一个拍摄所述检查对象物。/n
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