[发明专利]超薄紫外发光器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910326625.X 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN109950370A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 曾昭烩;陈志涛;李祈昕;刘晓燕;曾巧玉;左秉鑫;李叶林 申请(专利权)人: 广东省半导体产业技术研究院
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 杨奇松
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供了一种超薄紫外发光器件及其制备方法,通过在第一衬底上制备形成半导体层、P型金属层以及阻挡层,并制作形成N型电极和绝缘层,进而通过连接层与第二衬底键合连接。第二衬底可作为后续制作的支撑结构,方便进行第一衬底的去除等工艺,在将第二衬底去除后,可以得到厚度较薄的紫外发光器件。器件制作过程中通过键合第二衬底,使去除第一衬底后的器件具有一定厚度,器件出现裂片和蜷曲的概率降低,可以得到完整、平整的器件。同时,第二衬底可回收利用,提升物料利用率,降低生产成本。制备得到的器件厚度较薄,增大了器件的出光角度,提高了出光效率,增加了发光光强。
搜索关键词: 衬底 制备 紫外发光器件 去除 绝缘层 器件制作过程 物料利用率 半导体层 衬底键合 衬底去除 出光效率 概率降低 支撑结构 可回收 连接层 阻挡层 键合 裂片 制作 平整 申请
【主权项】:
1.一种超薄紫外发光器件的制备方法,其特征在于,包括:提供第一衬底;在所述第一衬底一侧制作半导体层,所述半导体层包括依次制作的U型氮化物半导体层、N型氮化物半导体层、多量子阱层以及P型氮化物半导体层;在所述半导体层背离所述第一衬底一侧制作P型金属层;基于所述P型金属层制作阻挡层将所述P型金属层的表面和侧面覆盖,以包覆所述P型金属层;基于所述半导体层制作形成将所述N型氮化物半导体层暴露的接触孔;在所述接触孔中制作与所述N型氮化物半导体层连接的N型电极;制作绝缘层,所述绝缘层覆盖所述阻挡层、N型电极以及所述N型电极与所述半导体层之间的间隙;去除所述绝缘层位于所述N型电极表面的部分,形成暴露所述N型电极的电极孔;基于所述绝缘层和电极孔制作与所述N型电极连接的连接层;基于所述连接层键合连接第二衬底;去除所述第一衬底;制作用于形成多个芯片单元的划片槽,并制作用于形成P型电极的P型电极区域;对所述U型氮化物半导体层的表面进行粗化;在所述P型电极区域中制作与所述P型金属层连接的P型电极;去除所述第二衬底,并基于所述划片槽分割形成多个芯片单元,完成所述超薄紫外发光器件的制备。
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