[发明专利]电解铜箔的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910335218.5 申请日: 2019-04-24
公开(公告)号: CN110042438B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 贾永良;宋铁峰;陈亮龙;郭贵龙;郭小高;黄耀辉 申请(专利权)人: 福建清景铜箔有限公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04
代理公司: 厦门原创专利事务所(普通合伙) 35101 代理人: 徐东峰;黄一敏
地址: 364200 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种电解铜箔的制备方法,包括以下步骤:S1,硫酸铜电解液配置:将纯度为99.95%及以上的高纯铜线在硫酸溶液中加热溶解生成硫酸铜电解液;S2,生箔制造;在所述硫酸铜电解液加入添加剂,并输送至生箔机的电解槽中进行电解生箔,其中;电解生箔的工艺参数为:电解液的温度控制在50~60℃,生箔过程中阳极板的电流密度为38~45A/dm2,Cu2+浓度为90~95g/L,H2SO4浓度为100~110g/L,明胶浓度100‑300ppm,硫酸高铈的浓度为0.5~10ppm,MESS的浓度为1~20ppm,SPS的浓度为10~50ppm,Cl浓度的为10~30ppm;S3,防氧化处理:将电解所得的铜箔进行防氧化处理;S4,产品分切:经防氧化处理后的铜箔,进行裁剪分切并包装。
搜索关键词: 电解 铜箔 制备 方法
【主权项】:
1.一种电解铜箔的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,硫酸铜电解液配置:将纯度为99.95%及以上的高纯铜线在硫酸溶液中加热溶解生成硫酸铜电解液;S2,生箔制造;在所述硫酸铜电解液加入添加剂,并输送至生箔机的电解槽中进行电解生箔,其中;电解生箔的工艺参数为:电解液的温度控制在50~60℃,生箔过程中阳极板的电流密度为38~45A/dm2,Cu2+浓度为90~95g/L,H2SO4浓度为100~110g/L,明胶浓度100‑300ppm,硫酸高铈的浓度为0.5~10ppm,MESS的浓度为1~20ppm,SPS的浓度为10~50ppm,Cl浓度的为10~30ppm;S3,防氧化处理:将电解所得的铜箔进行防氧化处理;S4,产品分切:经防氧化处理后的铜箔,进行裁剪分切并包装。
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