[发明专利]电解铜箔的制备方法有效
申请号: | 201910335218.5 | 申请日: | 2019-04-24 |
公开(公告)号: | CN110042438B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 贾永良;宋铁峰;陈亮龙;郭贵龙;郭小高;黄耀辉 | 申请(专利权)人: | 福建清景铜箔有限公司 |
主分类号: | C25D1/04 | 分类号: | C25D1/04 |
代理公司: | 厦门原创专利事务所(普通合伙) 35101 | 代理人: | 徐东峰;黄一敏 |
地址: | 364200 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: |
本发明提供了一种电解铜箔的制备方法,包括以下步骤:S1,硫酸铜电解液配置:将纯度为99.95%及以上的高纯铜线在硫酸溶液中加热溶解生成硫酸铜电解液;S2,生箔制造;在所述硫酸铜电解液加入添加剂,并输送至生箔机的电解槽中进行电解生箔,其中;电解生箔的工艺参数为:电解液的温度控制在50~60℃,生箔过程中阳极板的电流密度为38~45A/dm |
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搜索关键词: | 电解 铜箔 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电解铜箔的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,硫酸铜电解液配置:将纯度为99.95%及以上的高纯铜线在硫酸溶液中加热溶解生成硫酸铜电解液;S2,生箔制造;在所述硫酸铜电解液加入添加剂,并输送至生箔机的电解槽中进行电解生箔,其中;电解生箔的工艺参数为:电解液的温度控制在50~60℃,生箔过程中阳极板的电流密度为38~45A/dm2,Cu2+浓度为90~95g/L,H2SO4浓度为100~110g/L,明胶浓度100‑300ppm,硫酸高铈的浓度为0.5~10ppm,MESS的浓度为1~20ppm,SPS的浓度为10~50ppm,Cl‑浓度的为10~30ppm;S3,防氧化处理:将电解所得的铜箔进行防氧化处理;S4,产品分切:经防氧化处理后的铜箔,进行裁剪分切并包装。
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