[发明专利]一种掩膜版清洗装置及清洗方法在审
| 申请号： | 201910364544.9 | 申请日： | 2019-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN110000150A | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 朱朝月;李素华;杨硕;张孟湜 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;B08B7/00 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 065500 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明实施例涉及半导体制造技术领域，公开了一种掩膜版清洗装置，包括：清洗槽和辅助清洗组件，其中，清洗槽用于收容清洗药液及浸入清洗药液的待清洗掩膜版；辅助清洗组件设于清洗槽外，且相对清洗槽可移动设置，辅助清洗组件包括：热源、降解光源、超声波发生器中的一种或多种的组合。本发明实施方式提供的掩膜版清洗装置及清洗方法，实现了对待清洗掩膜版快速、彻底的清洁。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 清洗槽 清洗装置 清洗组件 清洗 清洗药液 半导体制造技术 超声波发生器 可移动设置 浸入 热源 降解 光源 收容 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版清洗装置，其特征在于，包括：清洗槽和辅助清洗组件，其中，所述清洗槽用于收容清洗药液及浸入所述清洗药液的待清洗掩膜版；所述辅助清洗组件设于所述清洗槽外，且相对所述清洗槽可移动设置，所述辅助清洗组件包括：热源、降解光源、超声波发生器中的一种或多种的组合。
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