[发明专利]器件层互连在审

专利信息
申请号: 201910374596.4 申请日: 2019-05-07
公开(公告)号: CN110581132A 公开(公告)日: 2019-12-17
发明(设计)人: M·博尔;M·科布林斯基;M·内伯斯 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 72002 永新专利商标代理有限公司 代理人: 邬少俊;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本文描述的是与器件层互连相关联的集成电路(IC)结构、器件和方法。例如,IC管芯可以包括包含沿着半导体鳍状物的晶体管阵列的器件层、以及晶体管阵列中的器件层互连,其中器件层互连与晶体管阵列的多个不同的源极/漏极区电接触。
搜索关键词: 器件层 晶体管阵列 互连 半导体鳍状物 源极/漏极区 电接触 集成电路 关联
【主权项】:
1.一种集成电路(IC)管芯,包括:/n包括晶体管阵列的器件层;/n所述器件层的背面上的背面互连;/n所述器件层中的器件层互连,电耦合到所述背面互连,其中,所述器件层互连与所述器件层互连的第一表面处的第一源极/漏极区和所述器件层互连的相对的第二表面处的第二源极/漏极区导电接触。/n
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