[发明专利]基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法

摘要

本发明提供一种处理基板的基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的基板处理方法。该基板处理装置的顶板在第一位置由相向构件保持部保持，在第二位置由基板保持部保持，并且与基板保持部一起旋转。就基板处理装置而言，通过控制部控制第一处理液供给部、第二处理液供给部以及喷嘴移动机构，在第一处理液喷嘴位于顶板的被保持部内的供给位置的状态下，经由相向构件开口向基板供给第一处理液，第一处理液喷嘴从供给位置移动至退避位置。然后，第二处理液喷嘴从退避位置移动至供给位置，经由相向构件开口向基板供给第二处理液。这样，与从一个处理液喷嘴依次供给多种处理液的情况相比，能够抑制或者防止产生多种处理液的混合液。

主权项

1.一种基板处理装置，用于处理基板，其特征在于，具有：基板保持部，保持水平状态的基板，相向构件，与所述基板的上表面相向，处理液供给部，向所述基板的所述上表面供给处理液，基板旋转机构，使所述基板与所述基板保持部一起以朝向上下方向的中心轴为中心旋转，相向构件容置部，能够容置所述相向构件，以及相向构件搬运机构，保持所述相向构件，在所述上下方向上的第一位置与第二位置之间相对于所述基板保持部相对移动，并且，在所述基板保持部的上方与所述相向构件容置部之间搬运所述相向构件；所述相向构件在所述第一位置由所述相向构件搬运机构保持，并且在上方远离所述基板保持部，所述相向构件在所述第二位置由所述基板保持部保持，通过所述基板旋转机构与所述基板保持部一起进行旋转，所述相向构件被所述相向构件搬运机构从所述基板保持部的上方搬运，并搬入所述相向构件容置部，容置于所述相向构件容置部的其他相向构件被所述相向构件搬运机构取出，并搬运至所述基板保持部的上方。