[发明专利]半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 201910395893.7 申请日: 2019-05-13
公开(公告)号: CN110875323B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 小林茂树;鬼头杰;内山泰宏 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H10B41/00 分类号: H10B41/00;H10B41/30;H10B43/00;H10B43/30
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实施方式提供容易高集成化的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备第1导电层、第1绝缘层、第1半导体层、第2半导体层、第1接触电极、第2接触电极。第1导电层在第1方向延伸。第1绝缘膜在第1方向延伸,在与第1方向交叉的第2方向与第1导电层并排。第1半导体层与第1导电层对向,在与第1方向及第2方向交叉的第3方向延伸。第2半导体层与第1导电层对向,在第3方向延伸,第2方向的位置与第1半导体层不同。第1接触电极连接于第1半导体层。第2接触电极连接于第2半导体层。在第1方向及第2方向延伸的第1截面中,第1半导体层的外周面由第1导电层遍及全周地包围,第2半导体层的外周面由第1导电层及第1绝缘层包围。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
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