[发明专利]测试样品及测试系统有效
| 申请号： | 201910404150.1 | 申请日： | 2019-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN110223968B | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 胡小波 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/66 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种测试样品及测试系统，该测试样品包括衬底、待测试层、第一电极层和第二电极层，所述待测试层设置于所述衬底一侧，所述待测试层包括半导体层、阻挡层和铜层，所述阻挡层设置于所述半导体层与所述铜层之间，所述第一电极层设置于所述半导体层与衬底之间，所述第二电极层设置于所述半导体层远离所述衬底的方向上，其中，所述第一电极层与所述第二电极层分别形成电容的第一极板和第二极板，所述待测试层形成电容的介质；通过提供一种测试样品，在半导体层的两侧形成电容的第一极板和第二极板，可通过测试电容的变化，从而评估阻挡层对铜的阻挡能力，解决了现有评估阻挡层对铜扩散的阻挡能力的方法存在效率较低的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 样品 系统 | ||
【主权项】：
1.一种测试样品，其特征在于，包括：衬底；待测试层，设置于所述衬底一侧，所述待测试层包括半导体层、阻挡层和铜层，所述阻挡层设置于所述半导体层与所述铜层之间；第一电极层，设置于所述半导体层与衬底之间；第二电极层，设置于所述半导体层远离所述衬底的方向上；其中，所述第一电极层与所述第二电极层分别形成电容的第一极板和第二极板，所述待测试层形成电容的介质。
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