[发明专利]掩模板温度控制装置和掩模曝光装置有效
| 申请号： | 201910409932.4 | 申请日： | 2019-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN111948907B | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 张明辉;周剑锋;郑锋标;张帅 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模板温度控制装置和掩模曝光装置。此掩模板温度控制装置包括：气体温控单元、气体输送单元和掩模存放单元；所述气体输送单元用于向所述掩模存放单元输送气浴气体，所述气体温控单元用于将所述气体输送单元传输至所述掩模存放单元的气浴气体的温度变化范围调节至预设温度范围；其中，所述掩模存放单元包括版架主体和隔板，所述隔板固定在所述版架主体内，相邻两个所述隔板中间形成容纳空间，所述容纳空间用于放置掩模板。本发明的技术方案可降低掩模板温度控制难度。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 温度 控制 装置 曝光 | ||
【主权项】：
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