[发明专利]掩膜装置有效
| 申请号： | 201910411830.6 | 申请日： | 2019-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN110117768B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 曾佳;陈奎;宋育准;曹东旭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种掩膜装置，其包括框架结构、至少一个掩膜板及至少一个收缩片，该掩膜板与所述框架结构连接；所述收缩片连接所述掩膜板与所述框架结构，和/或所述收缩片连接相邻所述掩膜板；其中，所述收缩片能够在收缩过程中向所述掩膜板施加拉力，从而可减轻掩膜板的褶皱和下垂量，以提高蒸镀良率。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜装置，其特征在于，包括：框架结构；至少一个掩膜板，与所述框架结构连接；至少一个收缩片，所述收缩片连接所述掩膜板与所述框架结构，和/或所述收缩片连接相邻所述掩膜板；其中，所述收缩片能够在收缩过程中向所述掩膜板施加拉力。
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