[发明专利]一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置在审
| 申请号： | 201910439518.8 | 申请日： | 2019-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN110172679A | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 夏佑科 | 申请（专利权）人： | 苏州新材料研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/18 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 范晴;吴音 |
| 地址： | 215125 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置，包括真空镀膜腔室，真空泵和多级过滤机构；所述多级过滤机构下部设置有过滤入口；所述多级过滤机构上部设置有过滤出口；所述过滤入口与真空镀膜腔室连通；所述过滤出口真空泵连通。本案经过不同目数的过滤网多级过滤后，解决多余钇原子大颗粒反应物进入真空泵问题；同时过滤网上方增加了凸轮机构和电机，将残留在过滤网上的粉尘脱落下来，延长过滤网使用寿命；有效保护真空泵，保证MOCVD中镀膜工艺的成品率和效率。 | ||
| 搜索关键词： | 多级过滤 真空泵 过滤 大颗粒 反应物 真空镀膜腔室 过滤出口 过滤网 钇源 连通 镀膜工艺 粉尘脱落 使用寿命 凸轮机构 成品率 钇原子 目数 电机 残留 保证 | ||
【主权项】：
1.一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置，其特征在于：包括真空镀膜腔室，真空泵和多级过滤机构；所述多级过滤机构下部设置有过滤入口；所述多级过滤机构上部设置有过滤出口；所述过滤入口与真空镀膜腔室连通；所述过滤出口真空泵连通。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
