[发明专利]光罩结构在审
| 申请号： | 201910448140.8 | 申请日： | 2019-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN110308615A | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 张永晖;李鹏;吴绍静 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/26 | 分类号： | G03F1/26 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光罩结构，包括：一透明基板，包括透光区域以及被所述透光区域包围的至少一个遮光区域；一遮光掩膜层，其设置于所述透明基板并布满所述遮光区域；一相移掩膜层，其设置于所述透明基板上并与所述遮光掩膜层连接，所述相移掩膜层连接在所述遮光掩膜层的边缘上并位于所述透光区域，所述相移掩膜层用于使被其散射的光与被所述遮光掩膜层散射的光在交界面处得到相消。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜层 遮光 透光区域 透明基板 相移掩膜 遮光区域 散射 光罩 交界面 包围 | ||
【主权项】：
1.一种光罩结构，其特征在于，包括：一透明基板，包括透光区域以及被所述透光区域包围的至少一个遮光区域；一遮光掩膜层，其设置于所述透明基板并布满所述遮光区域；一相移掩膜层，其设置于所述透明基板上并与所述遮光掩膜层连接，所述相移掩膜层连接在所述遮光掩膜层的边缘上并位于所述透光区域，所述相移掩膜层用于使被其散射的光与被所述遮光掩膜层散射的光在交界面处得到相消。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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