[发明专利]光刻方法有效
| 申请号： | 201910448289.6 | 申请日： | 2019-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN111999984B | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 邵仁锦;朱鹏飞;张瑾;浦东林;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 杨波 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光刻方法，用于将待处理图形进行无掩模版的光刻，所述方法包括如下步骤：S1：将所述待处理图形进行K次拆分，形成K幅子图形；S2：预设分割宽度M，分别将K幅所述子图形按照所述预设分割宽度M切割成n条子条带；S3：将K幅所述子图形中形成的n条宽度为M的所述子条带进行重组，形成n条新条带；S4：光刻所述新条带，其中，每完成一条新条带光刻，步进一条所述子条带的宽度M，进行另一待处理的新条带光刻。通过将待处理图形拆分分割形成的n条子条带进行重组，实现子条带分辨率的增强，从而达到光刻分辨率增强的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
【主权项】：
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