[发明专利]一种可印制出平面浅浮雕效果的紫外光固化胶印工艺在审

专利信息
申请号: 201910474269.6 申请日: 2019-06-03
公开(公告)号: CN112026386A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 李伟文;赵修利;李英 申请(专利权)人: 中山市东华印艺有限公司
主分类号: B41M1/06 分类号: B41M1/06;B41M1/18;B41M1/26;B41M3/00;B41M3/06;B41M7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 528400 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种可印制出平面浅浮雕效果的紫外光固化胶印工艺,包括以下工艺步骤:A、设计浅浮雕图案并制作图稿:通过计算机的设计软件来设计浅浮雕图案并制作出具有所述浅浮雕图案的图稿,浅浮雕图案包括浮雕部分、比浮雕部分凸出的轮廓线部分;B、选用合适的胶印机并进行色序设计;B、制作印版:将图稿输入至制版机中,并通过CTP板材来制作印版;C、选用印材:根据需求选择达因值合适的印材;D、开机印刷:将步骤C中的印材放入胶印机的进纸机构中,然后开机印刷,印材完成印刷流程后成为印刷成品并由收纸机构收集起来。
搜索关键词: 一种 印制 平面 浅浮雕 效果 紫外 光固化 胶印 工艺
【主权项】:
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