[发明专利]沉积装置有效
| 申请号： | 201910483671.0 | 申请日： | 2014-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN110158038B | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 厚见正浩 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06;G11B5/84 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了沉积装置。本发明提供一种沉积装置，用于在基板上形成膜，特征在于包含：被配置为使靶材绕旋转轴旋转的旋转部；被配置为产生电弧放电的撞击件；被配置为驱动撞击件以在产生电弧放电时获得靶材的旋转轴周围的侧表面与撞击件彼此接近的接近状态的驱动部，以及被配置为控制通过旋转部的靶材的旋转以改变接近状态下靶材的面向撞击件的侧表面的面向位置的控制部。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 | ||
【主权项】：
1.一种沉积装置，用于在基板上形成膜，特征在于包含：旋转部，被配置为使靶材绕旋转轴旋转；撞击件，连接到电压施加部并且被配置为产生电弧放电；驱动部，被配置为驱动撞击件以形成靶材的旋转轴周围的侧表面与撞击件接近的接近状态从而产生电弧放电；和控制部，被配置为控制靶材的通过旋转部的旋转，以改变在接近状态下靶材的侧表面的面向撞击件的面向位置。
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