[发明专利]法拉第杯组件、离子注入装置及其使用方法在审
| 申请号： | 201910485014.X | 申请日： | 2019-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN112053928A | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 王东 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： |
本公开提供一种法拉第杯组件、离子注入装置及其使用方法，涉及半导体技术领域。该法拉第杯组件包括基座、法拉第杯、保护环和多个连接件。基座具有一设有安装槽的安装面，安装槽的底面设有至少一个安装孔；法拉第杯呈圆环状且设于安装槽的底面，法拉第杯设有沿周向延伸的圆环形的杯腔，杯腔具有朝向安装槽顶部的开放端，杯腔底部设有多个沿周向均匀分布的固定孔；保护环设于安装面且遮蔽安装槽，保护环在开放端的投影覆盖杯腔，保护环设有多个周向分布的圆弧形的狭缝，狭缝和固定孔满足以下条件： |
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| 搜索关键词： | 法拉第 组件 离子 注入 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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