[发明专利]用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备在审
| 申请号： | 201910497040.4 | 申请日： | 2019-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN112071733A | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 倪图强;左涛涛 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 张妍;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备，其中，用于真空处理设备的内衬装置包括：环形内衬，所述环形内衬包括相互连接的侧壁保护环和承载环，所述承载环的外径大于侧壁保护环的外径，所述环形内衬围成一个处理空间；位于所述承载环内的气体通道，所述气体通道与所述处理空间连通。所述用于真空处理设备的内衬装置的性能较好。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 处理 设备 内衬 装置 | ||
【主权项】：
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