[发明专利]用于移除遮罩清洁槽中的杂质的循环设备及方法有效
| 申请号： | 201910502172.1 | 申请日： | 2019-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN110600396B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 尹沧老;金明基 | 申请（专利权）人： | 得八益十意恩至有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 李德魁 |
| 地址： | 韩国忠清*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于移除清洁槽中的杂质的循环设备及方法，该循环设备包括：清洁槽，该清洁槽用于存储清洁遮罩的清洁液；清洁液供给喷嘴，该清洁液供给喷嘴围绕清洁槽的下面设置，以将清洁液供应到清洁槽；外部存储罐，该外部存储罐围绕清洁槽的外周设置，以临时存储从清洁槽溢流的清洁液；辅助罐，该辅助罐设置在与清洁槽以定距离间隔开的外侧，以存储从清洁槽和外部存储罐排出的清洁液；以及循环供给装置，该循环供给装置用于将清洁槽、外部存储罐和辅助罐彼此连接，以循环清洁液。根据本发明，不再需要通过工人不方便地进行的手动清洁，完全保护他或她的健康避免人体暴露于有害的化学物质或杂质，并且其清洁时间短于手动清洁的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 中的 杂质 循环 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于移除清洁槽中的杂质的循环设备，所述循环设备包括：/n清洁槽，所述清洁槽用于存储清洁遮罩的清洁液；/n清洁液供给喷嘴，所述清洁液供给喷嘴围绕清洁槽的下面设置，以将清洁液供应到清洁槽；/n外部存储罐，所述外部存储罐围绕清洁槽的外周设置，以临时存储从清洁槽溢流的清洁液；/n辅助罐，所述辅助槽设置在与所述清洁槽以定距离间隔开的外侧，以存储从所述清洁槽和所述外部存储罐排出的清洁液；以及/n循环供给装置，该循环供给装置用于将清洁槽、外部存储罐和辅助罐彼此连接，以循环清洁液。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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