[发明专利]一种含邻位碳硼烷结构的双核铑配合物及其制备与应用有效

专利信息
申请号: 201910505478.2 申请日: 2019-06-12
公开(公告)号: CN110240620B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 姚子健;吕文瑞;李荣建;高永红;邓维 申请(专利权)人: 上海应用技术大学
主分类号: C07F15/00 分类号: C07F15/00;B01J31/22;C07C209/60;C07C211/48;C07C211/52
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 吴文滨
地址: 201418 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种含邻位碳硼烷结构的双核铑配合物及其制备与应用,铑配合物的制备方法包括以下步骤:1)将n‑BuLi溶液加入至邻位碳硼烷溶液中,之后在室温下反应30‑60min;2)加入硒,并在室温下反应1‑2h;3)加入[Cp*RhCl2]2,并在室温下反应3‑6h,经后处理即得到铑配合物;铑配合物用于催化芳胺N‑甲基化反应制备芳胺N‑甲基化衍生物。与现有技术相比,本发明中含邻位碳硼烷结构的双核半夹心铑配合物的制备方法简单绿色,具有优良的选择性和较高收率,且制得的铑配合物在室温下具有较高的催化活性,能够用于催化芳胺N‑甲基化反应制备芳胺N‑甲基化衍生物,催化反应收率高,有广泛的工业应用前景。
搜索关键词: 一种 含邻位碳硼烷 结构 双核铑 配合 及其 制备 应用
【主权项】:
1.一种含邻位碳硼烷结构的双核铑配合物,其特征在于,该铑配合物的结构式如下所示:其中,“·”为硼氢键。
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