[发明专利]阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201910507308.8 申请日: 2019-06-12
公开(公告)号: CN110265407A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 丁文涛 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;G02F1/1362
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法。阵列基板包括层叠设置的衬底层、缓冲层、标记层和薄膜晶体管层;所述缓冲层设于所述衬底层的一面,所述缓冲层中层叠有应力相互抵消的至少两层无机层;所述标记层设于所述缓冲层背离所述衬底层的一面;所述薄膜晶体管层设于所述缓冲层具有标记层的一侧。显示面板包括所述的阵列基板。阵列基板的制作方法包括步骤:基板提供、衬底层制作、缓冲层制作和薄膜晶体管层制作。本发明所述缓冲层的两层无机层巧妙的利用了SiNx薄膜和SiO2薄膜应力方向相反互相抵消,增加缓冲层与衬底层的粘附力,从而保证对位标记不丢失。
搜索关键词: 缓冲层 阵列基板 衬底层 薄膜晶体管层 制作 显示面板 标记层 无机层 两层 抵消 层叠设置 对位标记 方向相反 基板 粘附 背离 中层 保证
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底层;缓冲层,设于所述衬底层的一面,所述缓冲层中层叠有应力相互抵消的至少两层无机层;标记层,设于所述缓冲层背离所述衬底层的一面;以及薄膜晶体管层,设于所述缓冲层具有标记层的一侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910507308.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top