[发明专利]限位缓冲机构、掩膜台及光刻设备有效
| 申请号： | 201910508366.2 | 申请日： | 2019-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN112083630B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 纪俊洋;郑清泉;方洁 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种限位缓冲机构、掩膜台及光刻设备，包括柔性单元及限位单元，柔性单元包括第一固定端、第二固定端及位于两者之间的柔性部件，柔性部件包括第一簧片及若干第二簧片，若干第二簧片的一端与第一簧片的一端连接，最靠近所述第一簧片的第二簧片的另一端与第一簧片的另一端之间设有间隙，限位单元与柔性单元的第二固定端连接，当限位单元受力时，若干第二簧片先形变以进行缓冲，当间隙闭合后，若干第二簧片及第一簧片一起形变以提供缓冲，以防止零件被损坏，且由于第一簧片的横向宽度尺寸较第二簧片的横向宽度尺寸大，也就具有较大的刚度，在间隙闭合后可以提供限位功能，防止柔性单元形变过大，保证缓冲效果达到最佳。 | ||
| 搜索关键词： | 限位 缓冲 机构 掩膜台 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910508366.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
