[发明专利]一种套刻标记形貌和测量条件优化方法

摘要

本发明公开了一种套刻标记形貌和测量条件优化方法，属于光刻领域。首先，根据光刻工艺确定套刻标记形貌结构和材料光学常数。其次，通过解析或数值的建模方法可计算套刻光学表征曲线。然后，根据泰勒公式得到套刻测量重复性精度和准确度的表达式。接着，选择待优化变量和合适的多目标算法，对套刻测量重复性精度和准确度进行优化，获得多个帕累托优化结果。最后，验证多个帕累托优化结果的鲁棒性，选择鲁棒性较好的结果作为最终优化结果。本发明公开的方法对eDBO方法的套刻标记形貌和测量条件同时进行了优化，最终优化结果具有重复性精度高、测量准确度高、测量鲁棒性好的特点，满足了光刻工艺中套刻误差测量的需要。

主权项

1.一种套刻标记形貌和测量条件优化方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤101，确定套刻标记形貌结构和材料光学常数；步骤102，根据步骤101确定的套刻标记形貌结构的参数和材料光学常数，以及设定的测量条件，通过解析或数值建模方法计算单个光学表征量I，通过连续改变套刻偏移量δ计算得到套刻光学表征曲线；所述套刻光学表征曲线表征光学表征量I和套刻偏移量δ的函数关系；步骤103，在所述套刻光学表征曲线的原点展开泰勒公式，得到套刻测量重复性精度σ和准确度μ的表达式；步骤104，从所述套刻标记形貌结构的参数和所述测量条件中选定待优化变量，以套刻测量重复性精度σ和准确度μ作为优化目标，采用多目标优化算法对所述待优化变量进行迭代选择，获取包含多组所述套刻测量重复性精度σ和准确度μ的帕累托优化结果。